電除離子裝置典型運用： Ø 制藥行業(yè)制取純化水； Ø 電鍍(鍍金、鍍銀、鍍絡、塑料電鍍、鍍鉻、鍍鋅等用水)、玻璃鍍膜用高純水； Ø 微電子、電力行業(yè)用高純水；

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金浩源供應超純水設(shè)備 離子交換器 反滲透設(shè)備

超純水的制備要求是相當高的，是在反滲透及其他純化處理過的水中去除離子，現(xiàn)在可以說利用EDI工藝來制備純水已經(jīng)是一種發(fā)展潮流！

防靜電服洗滌超純水去離子水凈化設(shè)備 EDI超純水設(shè)備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm

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超純水設(shè)備是反滲透設(shè)備跟離子交換混床或ED相結(jié)合配套使用，離子交換混床是通過離子交換樹脂在電解質(zhì)溶涂中進行的，可去除水中的各種陰、陽離子，等。

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電去離子高純水設(shè)備

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優(yōu)點：水質(zhì)穩(wěn)定、占地小、操作簡單、運行費低、無酸堿再生及廢水排放、可連續(xù)運行及再生。

出水水質(zhì)具有最佳穩(wěn)定度，能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制

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EDI作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。

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