硅片清洗超純水設(shè)備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。

硅片腐蝕清洗設(shè)備

用于模具的優(yōu)點： （1）脫模容易，避免模具粘有膠粘； （2）無需脫模劑，避免影響粘貼效果及污染環(huán)境； （3）減少多色橡膠底混色現(xiàn)象； （4）大量降低廢品率

屬混合揮發(fā)溶劑型清洗劑，可滿足浸洗、刷洗、噴射洗、超聲波清洗等要求，是進口及國產(chǎn)清洗機的理想配套產(chǎn)品

清除油漬油垢效果好，黃斑一擦就掉。使用安全環(huán)保，對人體、對環(huán)境無任何影響，不燃不爆。并且對保養(yǎng)的設(shè)備表面油漆不會有傷害。

鍍鋅零件中性油污清洗劑 金屬設(shè)備無腐蝕環(huán)保除油劑

應用范圍：主要用于工業(yè)設(shè)備循環(huán)冷卻水系統(tǒng)、景觀噴泉水池、船舶、中央空調(diào)的冷水塔、涼水塔、工業(yè)等冷卻水系統(tǒng)。

操作方便，人性化操作界面

硅片清洗加工設(shè)備，可廣泛用于IC生產(chǎn)和半導體元器件生產(chǎn)中晶片的濕法化學工藝

供應硅片清洗設(shè)備

硅片清洗超純水設(shè)備

公司自有產(chǎn)品包括半導體前段。后段。太陽能平板顯示FPD,LED.MEMS應用中的各種濕制程設(shè)備，例如硅片濕法清洗、蝕刻，硅芯硅棒濕法化學處理，液晶基板清洗，LED基片顯影脫膜等；

太陽能硅片清洗設(shè)備

手動硅片清洗設(shè)備

半導體硅片清洗機設(shè)備